看一看高德英特与ULVAC-PHI用户会推出XPS重量级新品--中国机械网

在“2016年全国表面分析科学与技术应用学术会议”召开的前一天，即2016年8月10日，高德英特公司与ULVAC-pHI公司在昆明理工大学举办了“2016中国表面分析应用与学术用户会议暨ULVAC-pHI最新技术说明会”。50余名ULVAC-pHI的用户、以及从事表面分析技术研究与应用的专家学者参加了会议。

ULVAC-pHI为全球专业的表面分析仪器制造商，是唯一可提供四种表面成分分析设备的厂商。其产品包括光电子能谱仪(XpS)，俄歇电子能谱仪(AES)，飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)和动态二次离子质谱仪(D-SIMS)。据介绍，ULVAC-pHI旗下的XpS约占世界份额的60%，其产品定位于高端XpS，性能被行业内专家学者认可，是目前唯一提供扫描聚焦型X-ray源的厂家，真正实现了XpS的微区分析能力。AES系统采用专利设计的筒镜式(CMA)能量分析器，实现高空间分辨率、高灵敏度的同时，避免了表面形貌对俄歇成北京遗产继承律师像的阴影效应。TOF-SIMS独特的三重聚焦分析器(TRIFTAnalyzer)，能够最大限度的提高二次离子质谱的离婚诉讼景深，对表面粗糙样品也可轻松处理。与此同时，ULVAC-pHI提供最高灵敏度四级杆式D-SIMS，可高效快速完成动态SIMS分析。而且除了表面分析仪器以外，ULVAC-pHI还同时研发配置在相关仪器的外围配件。

高德英特公司是ULVAC-pHI在中国区域销售及售后服务的全权代表，二者于2007年建立了战略合作伙伴关系。高德英特公司拥有8位资深技术支持工程师，全部得到原厂的资质认证，能够为用户提供最完整的解决方案。目前，ULVAC-pHI在中国的用户主要包括清华大学、厦门大学、南京大学、南京理工大学、北京理工大学等国内知名高校和院所。

木村市朗先生和陈文征博士分别致辞，共同表达了ULVAC-pHI和高德英特公司是一个团队，代表了“pHI在中国”;并欢迎用户对ULVAC-pHI的仪器和服务多提意见，今后将加强和用户的交流。用户会上，ULVAC-pHI和高德英特公司还郑重感谢了20多年来给予pHI众多帮助的曹立礼和刘庆华老师。在pHI的产品进入中国市场之初，两位老师为了pHI仪器更好得到应用做出了杰出的贡献。

ULVAC-pHI亚洲区销售经理柴崎琢自先生和高德英特公司中国区总监叶上远先生介绍了ULVAC-pHI在全球和中国的发展。同时，叶上远先生与ULVAC-pHI的真田宪明博士、宫山卓也先生分别介绍了新产品、新技术、新应用。

叶上远先生介绍了ULVAC-pHI刚刚全球发布的多功能扫描XpS微探针VersaprobeIII。全新的VersaprobeIII采用了独特的聚焦X-ray源和全新的输入透镜、探测器，性能指标全面提升。令人影响深刻的是，相对于上一代产品VersaprobeII，新品的灵敏度提高了3倍。尤其在微区分析方面，相比于其他XpS，新品的灵敏度提高了100倍。Versapro涉外继承beIII的多功能平台为中国科研和研发领域的未来发展提供了广大的可能，使得以XpS为核心的表面分析技术具有更多的分析可能和意义。

这次会上，ULVAC-pHI还推出了一项用于pHInanoTOFII的MS/MS技术。关于该新技术的应用，叶上远先生说到，过北京律师在线咨询去对于201m/z处的峰是什么多是需要去“猜”，而现在有了MS/MS技术，大家则可以完全确定的知道是什么。

高德英特公司还邀请了胜科纳米的华佑南博士、勀杰科技的刘伯纯先生作报告，二位都是ULVAC-pHI用户，利用ULVAC-pHI的仪器做出了很多的有意义的工作。